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二氧化硅消光粉高速胶体磨
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太仓希德机械科技有限公司坐落在享有“德企之乡”之称的太仓,公司成立伊始便与众多德资企业有技术方面的交流合作,通过结合德国*技术和科学管理模式,形成了完整的研发,组装,检测,及营销体系。着力打磨混合领域*产品,为客户提供的流体设备和成套工艺技术解决方案,包括研磨、乳化、分散、均质、搅拌、混合、干燥、冷却、烧结、熔融等工艺,提供工业生产中真空乳化机成套设备、粉体自动化配料系统、交钥匙工程大成套设备、多功能成套生产系统工艺过程监测、DCS 控制技术等。
公司产品已广泛应用于食品工业、生物医药、日常护理品、纳米材料、涂料油墨、石油化工、印染助剂、造纸工业、农药化肥、塑料橡胶、电力电子,精细化工、等行业。在新型高分子材料化工材料、精细化工,如石墨烯,沥青,新型锂电池,化妆品,制药应用尤为显著及广泛。
公司位于风景优美的千年古镇沙溪镇,交通位置*,公司处于G15沈海高速沙溪出口,距离沪通高铁太仓站10公里,距离上海虹桥枢纽(虹桥机场、高铁站)1小时车程,距离太仓港15公里。
“行有矩,为有道,事可成”是希德人给世界的承诺,服务万千用户,不忘初心,勇往直前。
二氧化硅消光粉高速胶体磨
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二氧化硅消光粉外观为白色分散性粉末状或颗粒状,广泛应用于涂料工业。通过对其粒径大小、粒径分布和表面性能的控制,消光粉能够为不同的涂料和印刷油墨提供出色的哑光效果。消光粉具有很高的消光效率和爽滑的表面手感,平均粒径小且集中。
在传统胶体磨基础上改进,不仅使转速由原来的3000转提升到了14000转,甚至是21000转的超高转速,细碎效果更好,作用效率更快,同时在结构是除了原本有的细碎研磨功能以外,更增设了高速离心分散功能,使物料在细碎过后能够更加稳定的分散,不分层,不沉淀。 改进型胶体磨依靠定转子间间隙(间隙可调)使物料在通过研磨区域使受到强大的机械力、液力剪切、高频振动等多重力的物理作用,被高效快速的剪切剥离、分散、粉碎,随后进过第二级高速剪切分散盘再一次剪切细化分散、匀化,达到物料超细粉碎和分散匀化的效果。
1、耐有机溶剂、耐腐蚀;
2、材质为316L不锈钢;
3、设备定转子(研磨分散工作腔体)间间隙可调,粒度可控;
4、设备整体机身夹套设计,高转速产生的热量可以通过外接冷却设备进行控温;
5、主轴与电机分体设计,用户可根据需要选择适当的转速;
6、设备为变频调速,可通过变频控制柜合理准确的调节设备转速;
7、可灵活设计生产过程中的特殊需求(设备表面光洁度、真空、防爆、设备材质);
8、从实验室设备平稳过渡到中试型实验以及后期的工业化放大实验,无需重新调整实验数据,程度降低了风险
研磨分散机是由胶体磨分散机组合而成的高科技产品。
一级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学征不一样。狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。
以下为型号表供参考:
型号 | 标准流量 L/H | 输出转速 rpm | 标准线速度 m/s | 马达功率 KW | 进口尺寸 | 出口尺寸 |
XMD2000/4 | 400 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
XMD2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
XMD2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80 | DN65 |
XMD2000/20 | 10000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
XMD2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 90 | DN150 | DN125 |
XMD2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
二氧化硅消光粉高速胶体磨