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R-IBE 215 赫尔纳供应德国ntg离子加速器IH
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代理商赫尔纳供应德国ntg离子加速器IH
赫尔纳供应德国ntg离子加速器IH
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公司简介:
NTG New Technologies GmbH & Co. KG 是一家中型机械工程公司,在开展业务,总部位于欧盟。德国制造对我们来说不是一句空话。我们的服务范围从简单的单个零件的生产延伸到复杂的工艺工程系统。从设计到生产再到调试,我们亲力亲为。我们也是您在合同制造方面的得力伙伴。
ntg离子加速器主要产品:
ntg离子加速器
ntg离子加速器产品型号:
IH
R-IBE 215
ntg离子加速器产品特点:
ntg离子加速器可以处理几何形状,不用清洁工作(在工件和机器上),低维护。可实现表面光洁度 PV < λ /10 至 λ/20(取决于质量和工艺速度要求)不用额外可实现表面质量 PV < λ/100,rms < 1nm,超过 25 年的 IBF 加工经验。
ntg离子加速器产品应用:
ntg离子加速器NTG 在构建常导射频粒子加速器方面拥有的经验。在这里,我们了解ntg离子加速器动力学和频技术设计,精度零件和装配的生产,包括使用新测量技术(激光跟踪仪)进行调整,直至频调整(现场测量、HF 调整)。当传统的研磨或抛光机无法再达到所需的表面质量时,总是会使用IBF(离子束修整)系统。ntg离子加速器客户包括光学器件制造商。虽然过去应用领域主要限于半导体工业中用于光刻目的的步进透镜的光学器件,但在光学器件中也可以看到向好发展的趋势。
ntg离子加速器近年来,用于硬质材料(玻璃等)结构转移的 IBE(离子束蚀刻)和 RIBE(反应离子束蚀刻)系统变得越来越重要。在这方面,NTG 也拥有范围的系统。
ntg离子加速器R-IBE 215 旨在将横向微结构转移到硬质光学材料(玻璃、石英或类似材料)中,这些微结构以前是使用光刻胶中的光学光刻以传统方式生产的。这是可能的,因为 R-IBE 工艺允许按比例去除光刻产生的结构的材料,并且尽管材料特性不同,光刻胶和基板也同样被去除。然后将结构从光刻胶转移到衬底中,然后将其蚀刻掉。
ntg离子加速器IH叉指式 H 模式加速器有效地将 HF 功率转换为加速场。与 4 杆 RFQ 等典型线路谐振器不同,这是一种空腔谐振器,其中槽路是谐振器结构的组成部分。因此,包括罐元件在内的整个内表面需要的公差。通过这种结构,我们也了解了部分动态和频技术设计的整体概念,直至结构的终 HF 调谐和调试。
ntg离子加速器氧化铝陶瓷室通常用于加速器单元中,用于注入、快速提取和光束操纵。这些器件在快速脉冲(纳秒)偏转器磁铁中用作喷射器、聚束器或扫描仪应用。