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离子溅射仪
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离子溅射仪集合了二极溅射模式之精华,并经重新定义设计,的电流与真空度记录曲线相结合可以进行常规的样品制样,还可以满足各种复杂特殊材料的样品制备要求,对于高分子薄膜,地质材料,半导体材料等各种样品的制备可以轻松应用。
稳定可靠的硬件,始终如一 人性化操作界面,易懂易用
良好的扩展功能,远瞩 低使用成本设计,经济实用
溅射系统
*的高压直流溅射/磁控低压溅射
高精密加工的金属溅射靶头
长寿命额定功率的直流溅射电源
高精度的真空测量系统
高性能的真空控制系统
可程序化设定的溅射周期
离子溅射仪是制备SEM样品和电极表面涂层广泛使用的一种方法,具有快捷、高效、无污染和大面积制备等优点。Microhezao离子溅射仪将成为大部分的物理或材料实验室样品制备的一部分。
外形尺寸: 424× 290×2 65 (mm) 工作电压: 200-240VAC 50H z
溅射电压: DC2400V 控制模式: 微处理器控制
功率: 500W 溅射电流: ≤30 mA
溅射时间: ≤600s 极限真空 : 0.1Pa
工作真空: ≤30Pa 膜层厚度: 内置膜厚估算(金靶)
真空测量: 电阻规 真空 速 率: <2L /s
电源和环境要求
220V±10%,50/60Hz,
功率4KVA单独地线<30Ω(干燥地区<10Ω)
温度10-30℃(每小时变化<5℃)
湿度 80%以下