WKWY-300 纹影仪

产品介绍

纹影仪可用来观察透明介质因各种因素引起的扰动的分布、传播过程以及扰动强度等。如研究激光与物质作用、分层流、多项流、传热与传质、激波、超声速流、燃烧、火焰、爆炸、等离子体、内弹道及某些化学反应等学科的流场密度变化科学研究。泰普勒纹影仪是传统、使用的一种。

技术参数：

其中主反射镜光学材料：K9光学玻璃，应力≤2，加工面型精度＜1/10λ；反射面真空镀铝，镀二氧化硅保护膜。小反射镜表面真空镀铝，镀二氧化硅保护膜，反射系数≥90%，面型精度＜1/10波长。

该系统主要的光机部件主要可以分为：光源狭缝系统、主球面反射镜装调机构、刀口成像系统三个部分。其中，光源狭缝系统和其中一块主球面反射镜组成准直系统，刀口成像系统与其中一块主球面反射镜组成纹影观视系统，分别布局于两个平台上。

纹影法，又称纹影技术，包括黑、白纹影法，彩色纹影法和干涉纹影法，是用纹影系统进行流场显示和测量的常用的光学方法。纹影法首先由Toepler于1864年提出，并应用在光学玻璃折射率的检测中。

1952年 ，Holde和Norht在纹影系统上使用白光的分光棱镜 ，实现了彩色纹影成象，扩大了纹影技术的应用范围；1962年，Bland和pelick用纹影法研究了水的压力和温度效应后指出，纹影法实用于水洞 的流场显示；1974年 ，Merzkirch对可压缩流场中的纹影技术进行了分类，把涉及到在纹影系统上进行的干涉纹影法的研究 ，包括光栅干涉、棱镜干涉以及Moire条纹干涉等 ，均归类于纹影技术,并得到国内同行的认可。