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GM2000 氧化锆陶瓷高剪切胶体磨

型号
GM2000
上海思峻机械设备有限公司

中级会员9年 

生产厂家

该企业相似产品

乳化机、胶体磨、均质机、分散机、研磨分散机、乳化泵、剪切泵、粉液混合机、成套多功能真空乳化机
  上海思峻机械设备有限公司是一家依托德国SGN工业设备生产加工技术的中德合作创新型企业。公司通过引进德国SGN的技术、科学管理模式以及工业设备的销售模式等,培养了一大批在研发、制造以及销售等领域的人才!在德国SGN工业设备的基础上,思峻又自主创新开发了一批适应市场高要求的新型研磨分散设备。
  公司主要研发、制造、销售流体领域的高*乳化机、胶体磨、均质机、分散机、研磨分散机、乳化泵、剪切泵、粉液混合机、成套多功能真空乳化机等设备,为混合、分散、均质、悬浮、乳化、湿磨、粉液混合等领域提供高品质的解决方案,设备加工材料细度可达微纳米级别。公司始终拥有一批在食品、化工、医药、新能源等领域有丰富经验的高*人才,能够专业为客户配备例如食品生产线、机械剥离法石墨烯生产线、氧化还原法石墨烯生产线、高纯度碳纳米管生产线、复合浆料生产线等。
  公司特别注重设备的售后服务。依托一支技术扎实、服务贴切的售后团队,我们将致力于为客户提供整套的售后服务,在Z短的时间内为客户解决与合作相关的一系列问题。
  “业精于专”是思峻公司的宗旨,专注人才、专注创新、专注品质、专注服务是公司一贯的追求和对您的承诺,我们坚信专注打造精品,专注将助力思峻在分散、乳化、均质的事业领域中勇攀高峰!



详细信息

氧化锆陶瓷高剪切胶体磨

陶瓷胶体磨是由二组陶瓷转子,二组陶瓷定子组成,在陶瓷胶体磨泵腔内部转子高速旋转,使陶瓷转子甩出,紧贴陶瓷定子,产生强劲的动能能快速地将粉体分散到液体中,**、快速、均匀地将一个相或多个相分布到另一个连续的相中,通常物料中的各个相是互不相溶的。。使物料在定转子之间微小的空隙中受到剪切、离心挤压、撞击、研磨、高频振荡等综合作用,使物料经过研磨后细度大大提高,再通过适量的添加剂共同作用,使产品快速、均匀、分散、乳化,研磨,避免了原金属胶体磨磨损后效果差缺点,效能比原来有胶体磨提高3倍以上,特别是对金属污染要求特别高的企业,如电子和电池行业,可以达到更高品质产品。

 

陶瓷胶体磨,包括氧化锆陶瓷胶体磨,氧化铝陶瓷胶体磨,氮化硼陶瓷胶体磨,但是硬度**的是氧化锆陶瓷胶体磨


氧化锆陶瓷胶体磨用一般来说要强于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。

 

GMSD2000系列是专门为胶体溶液生产所设计,特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。GMSD2000的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

 

三级错齿结构的研磨转子,配合精密的定子腔。此款立式胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,**的转速可以达到14000RPM.所以可以达到更好的分散湿磨效果。
  

 

以下为型号表供参考:

型号

标准流量

L/H

输出转速

rpm

标准线速度

m/s

马达功率

KW

进口尺寸

出口尺寸

GM2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

GM2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

GM2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

GM2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

GM2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

GM2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

氧化锆陶瓷高剪切胶体磨

 

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