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生产厂家氧化铝分散高剪切胶体磨
一、产品名称概述:氧化铝实验室分散机,氢氧化铝高剪切胶体磨,超高速研磨分散机,纳米研磨机,均质机
二、氧化铝工艺流程描述
铝土矿经地磅站称重后倒入卸矿站或铝矿原矿堆场,经胶带输送机送往均化堆场堆存,再经斗轮取料机、胶带输送机将铝土矿送往原料磨的磨头仓。外购石灰由汽车运进厂,石灰窑石灰通过出炉皮带直接进入石灰堆场,经破碎后进入斗式提升机卸入石灰仓,仓底设置板式给料机,胶带输送机,一部分石灰被送往原料磨磨头仓,另一部分石灰送往石灰消化工段。
三、原料研磨的重要工段
在原料磨工段,铝土矿、石灰及循环母液按比例加入原料磨中磨制原矿浆,原矿浆用水力漩流器进行分级,分级机溢流为合格的原矿浆,送入原矿浆槽,再用矿浆泵送往溶出车间的预脱硅工段,分级机底流返回原料磨。氧化铝的研磨是非常重要的,粉碎的氧化铝并混合其粒子。粉碎意味着必须克服表面张力的阻力来形成新表面。分散过程传递所需的能量,并保证两相均质混合。分散的长期稳定性会受到确切粒度分布及乳化剂和稳定剂使用的影响。
四、氧化铝载体催化剂
氧化铝载体催化剂是指白色粉末状或已成型的氧化铝固体,是一类使用为广泛的催化剂载体,约占工业上负载型催化剂的70%。氧化铝有多种形态,不仅不同形态有不tong性质,即使同一形态也因其来源不同,而有不同的性质,如密度、孔隙结构、比表面积等。这些性质对于用做催化剂载体的氧化铝有重要的意义。氧化铝大多是从其氢氧化物(又称水合氧化铝或氧化铝水合物)制备的。成型的商品氧化铝载体多属多孔物质,孔径大小及其分布,对催化过程中反应物在催化剂颗粒内部的扩散性质有重要影响。细微孔隙的孔径可小于20纳米粗孔孔径则可达微米级,孔隙构造随品种而异。所有的过渡态氧化铝都或多或少地含有水,在表面上存在一些羟基和暴露的铝原子,从而表现出B酸和L酸的特征(见酸碱催化剂),它对氧化铝载体的性质有重要影响。表面酸性与制备条件有关,特别是与杂质离子及热处理温度有关。如卤素等负离子会增强氧化铝的表面酸性,酸性增强将促进氧化铝本身对烃类裂解、异构化反应的催化功能。成型的商品氧化铝载体多属多孔物质,孔径大小及其分布,对催化过程中反应物在催化剂颗粒内部的扩散性质有重要影响。细微孔隙的孔径可小于20┱,粗孔孔径则可达微米级。
五、分散研磨
两相系统,其中一相由分得很细的粒子(通常在胶体大小范围)组成,分布于整个大物质间,粒子称分散相或称内相而大物质称作连续相或称外相。在自然条件下这种分布通常不均匀,但在控制下可以增进均匀度。方法是加入润湿剂或分散剂(界面活性剂)例如脂肪酸。不同的可能系统有:气体/固体(泡沫塑胶);液体/气体(雾);气体/液体(泡沫);固体/气体(烟雾);液体/液体(乳化);固体/液体(漆);及固体/固体(炭黑在橡胶中)。有些形式,例如牛乳及橡胶浆的稳定是借保护胶体的附着涂膜防止分散粒子的集结。固体在液体中的胶体分散(不严格地称溶液)可经由加入电解质中和粒子上的电荷而将其沉淀下来。较大颗粒会逐渐集结上升或下沉则视其密度而定。
六、氧化铝胶体磨介绍参数
胶体磨GM2000系列特别适合于胶体溶液,超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外,GM在摩擦状态下工作,因此也被称做湿磨。在锥形转载和定子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口问题,在工作中,分散头偏心运转使溶液出现涡流,因此可以达到更好的研磨分散效果。GM2000整机采用佳几何机构的研磨定转子,好的表面处理和优质材料,可以满足不同行业的多种需求。
以下为型号表供参考:
型号 | 标准流量 L/H | 输出转速 rpm | 标准线速度 m/s | 马达功率 KW | 进口尺寸 | 出口尺寸 |
GM2000/4 | 700 | 18000 | 44 | 2.2 | DN25 | DN15 |
GM2000/5 | 3000 | 10500 | 44 | 7.5 | DN40 | DN32 |
GM2000/10 | 8000 | 7200 | 44 | 15 | DN50 | DN50 |
GM2000/20 | 20000 | 4900 | 44 | 37 | DN80 | DN65 |
GM2000/30 | 40000 | 2850 | 44 | 55 | DN150 | DN125 |
GM2000/50 | 80000 | 1100 | 44 | 110 | DN150 | DN125 |
氧化铝分散高剪切胶体磨