GM2000 SGN/思峻 *混悬胶体磨研磨设备

【简单介绍】

SGN/思峻 *混悬胶体磨研磨设备，主要克服现有的片剂生产工艺复杂，投服不便，剂量不准，驱虫效果较差等弊端。该混悬液含有阿达唑粉，升温至８０度，液体石蜡，黄原胶，水,稳定剂。主要制备工艺为：将黄原胶加水配成胶液；置乳化器后加入石蜡油，升温至８０，稳定剂，阿达唑粉用胶体磨进行剪切制成。本生产工艺简单，质量稳定，投服操作简便，剂量准确，驱虫*。

【详细说明】

SGN/思峻 *混悬胶体磨研磨设备，主要克服现有的片剂生产工艺复杂，投服不便，剂量不准，驱虫效果较差等弊端。该混悬液含有阿达唑粉，升温至８０度，液体石蜡，黄原胶，水,稳定剂。主要制备工艺为：将黄原胶加水配成胶液；置乳化器后加入石蜡油，升温至８０，稳定剂，阿达唑粉用胶体磨进行剪切制成。本生产工艺简单，质量稳定，投服操作简便，剂量准确，驱虫*。

与国内胶体磨的性能比较（阿达唑混悬液胶体磨，驱虫药混悬胶体磨，*混悬胶体磨，高剪切胶体磨）：

一、转速和剪切速率：

SGN胶体磨，可选择德国机械密封，转速可以达到15000转    

F=23/0.7X1000=32857 S-1  

F=40/0.7/X1000=57142 S-1                      

国内胶体磨，可选择机械密封一般3000转，大约在14293-215440 S-1

通过转速比较可知，这是乳粉碎研磨的重要因素，相当于前者是后者的2-3倍

二、胶体磨头和间距：

SGN胶体磨，可以选择六种不同的模块头，实现多种功能，如三级乳化模块，超高速模块，NK胶体模块，NKO胶体模块，批次粉液液混合模块，连续粉液混合模块。

间距可调，可实现1-10微米小粒径材料加工

国内胶体磨，只有一种模块头，粒径细度有限，100微米以下较困难，重复性差

三、机械密封：

SGN胶体磨，双机械密封，易于清洗，将泄漏降至zui低，可24小时不停运转

国内胶体磨，单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁

四、清洗：

SGN胶体磨，立式，皮带驱动，易于维护，可有效保护马达及齿轮箱，防止损坏,符合流体流动原理，具有CIP/SIP在线清洗，在线杀菌功能，无需拆卸，机器设计*，立式结构符合流体原理，清洗更简便

国内胶体磨，卧式或立式（马达一体式），轴承部分受力较大，易于损坏，维护保养复杂，

通常情况，需要拆卸机器进行清洗

GM2000系列的特点：

①定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。

②齿列的深度：从开始的2.7mm 到末端的0.7mm，范围比较大，范围越大，处理的物料颗粒大小越广。

③沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。

高剪切胶体磨主要用途：

高剪切胶体磨适用于制药、食品、化工及其它行业的湿物料超微粉碎，能起到各种半湿体及乳状液物质德粉碎、乳化、均质和混合，主要技术指标已达到国外同类产品的*水平。

GM2000系列*混悬胶体磨设备选型表：

注：流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到zui大允许量的10%

胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。